会增加一倍，性能也将提升一倍。
过去半个多世纪以来，摩尔定律一直在发挥作用，但当光刻机的光源波长卡在193nm，芯片的制程缩小至65nm时，摩尔定律开始失效。
日本光刻机巨头尼康和佳能发扬传统艺能，选择了保守求稳，寄希望于157nm波长光刻、以空气为介质的“干式”光刻技术的突破上。
而这时候则2002年，时任台光电光刻技术研发负责人的林务本提出了一项构想，即利用水做介质的浸润式光刻。
原理是利用光通过液体介质时会弯折的特性，显微镜的影像透过浸湿的镜头会进一步放大。
相反地，当光线通过浸在液体中的微缩影镜头时，就能将影像藉由折射率进一步缩小。林务本认为市面上既有的193nm微影透过水折射的效果要比正在攻克的157nm效果会好得多。
在台光电的支持下林务本带着方案亲自跑遍美国、德国、日本等地，但无人理会，因为在如此精密的仪器中加水的想法听着就不靠谱，并且当时的光刻机厂商已将大量的研发投资押注157nm干式光刻机，此时要他们再开一条技术路线，投资风险太大。
尼康甚至仗着垄断地位要求台积电雪藏林务本。最后，走投无路的林务本，遇到了雄心勃勃的AS斯密特，二者一拍即合。斯密特清楚只有技术才能以小博大，要想在技术上打败尼康和佳能，新的技术路线就是机会。