晚上八点，陈延森乘车赶往庐州新桥机场，接着转乘湾流G500直飞燕京，准备参加明天的燕京互联网大会。
与此同时。
大洋彼岸的比佛利山庄，Sixty私人会所。
北美半导体行业的一众大佬，再度借着国际半导体协会交流的名义，在一间富丽堂皇的包间里聚了起来。
只是房间里的气氛，远不如上一次那般轻松。
“你们以为这是真的？”
高通董事长保罗轻嗤一声，不以为意地问道。
“埃里克，赛高不是往星源科技安插了十几枚钉子吗？”
英特尔的CEO布莱恩冲着对面的赛高光学负责人问道，说话间，下意识地晃了晃手里酒杯。
埃里克神情严肃，随即重重地点了点头道：“这款光刻机的型号命名为破晓A220，最大功率为220瓦，可支持最高7纳米的工艺制程。”
格罗方德的负责人桑杰听后，猛地吸了一口雪茄，继而吐出袅袅白雾，眼中的神色稍显复杂。
半个小时前，陈延森给他打过一通电话，问他需不需要生产效率更高的光刻机，价格只需7000万美币，比阿斯麦的售价便宜了12%。
每小时可处理235片晶圆，效率是TwinscanNXT1980i的1.3倍。
自己是世界第一梯队的芯片制造商，去买华国的光刻机？
这种魔幻的错位感，让他感觉极不真实。
可他从自己的消息渠道打听到，破晓A220EUV光刻机已于8月23日首次通电，全系统稳定运行。
这说明，华国已然掌握了光刻机的全链路核心技术，从光源到光学系统，再到双工件台的精度，全都攻克了。
此时，阿斯麦刚推出NXE3300B光刻机，交付数量不足5台。
原因也很简单，目前主流的芯片制程，大多都是28纳米和20纳米，使用TwinscanNXT1980i就足够了，每小时的生产效率在180片晶圆。
而NXE3300B虽然是EUV光刻机，单次曝光下的制造能力可达9纳米，但它的初始电源功率仅有80瓦，每小时只能处理20片晶圆。
效率太低，生产成本太高！
除了台积电、三星象征性地采购了两台，用于更先进制程的工艺改良外，格罗方德和联华电子压根没打算购买。
在桑杰看来，阿斯麦的NXE3300B，明显是一款不成熟
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